去離子超純水設(shè)備中濃水室結(jié)垢了怎么處理？
文章作者: 宏森環(huán)保
去離子超純水設(shè)備的工藝設(shè)計(jì)和模塊內(nèi)的進(jìn)水條件會在最大程度上降低模塊內(nèi)部堵塞的可能性，但隨著使用時(shí)間的越來越長，我們?nèi)ルx子超純水設(shè)備內(nèi)部模塊水管還是有產(chǎn)生阻塞的可能性，造成這點(diǎn)原因無它，歸結(jié)于進(jìn)水中含有些許溶質(zhì)，通過時(shí)間的累積最終在濃水室形成了鹽的沉淀。所以就有必要對濃水室的結(jié)垢進(jìn)行清洗處理。下面宏森環(huán)保就來為大家介紹一下去離子超純水設(shè)備中濃水室結(jié)垢了怎么辦。
1、記錄清洗前所有數(shù)據(jù)。
2、分離設(shè)備與其他純水設(shè)備的連接管路。
3、將清洗裝置連接好，開啟濃水進(jìn)出閥并關(guān)閉淡水進(jìn)出閥。讓清洗泵通過濃水管路進(jìn)入模塊在回到清洗水箱。
4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液。
5、啟動清洗泵，調(diào)節(jié)濃水進(jìn)水閥，以規(guī)定的流量循環(huán)清洗。
6、停止清洗泵，排除清洗水箱清洗廢液，分離濃水排水閥至地溝。
7、對清洗水箱連續(xù)注入經(jīng)反滲透純水設(shè)備生產(chǎn)出來的純水，啟動清洗泵連續(xù)清洗。
8、打開進(jìn)水閥和產(chǎn)水閥，同時(shí)對兩個(gè)水室進(jìn)行沖洗。
9、檢測濃水出水側(cè)的水質(zhì)，直至與進(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近。
10、各個(gè)閥門，恢復(fù)原始各設(shè)備流量數(shù)據(jù)。
11、恢復(fù)各個(gè)管路與其他系統(tǒng)的連接。
12、啟動plc控制電源對模塊進(jìn)行電流輸送，使設(shè)備進(jìn)入正常運(yùn)轉(zhuǎn)狀態(tài)，同時(shí)作好超純水設(shè)備的初次運(yùn)行的數(shù)據(jù)記錄。
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