半導體工業(yè)純水設備工藝流程講解

文章作者: 宏森環(huán)保

 　 眾所周知，半導體工業(yè)對于純水的水質要求是及其嚴格的，大部分的電子產(chǎn)品，如計算機、移動電話或是數(shù)字錄音機當中的核心單元都和半導體有著極為密切的關聯(lián)， 因此無論從科技或是經(jīng)濟發(fā)展的角度來看，半導體的重要性都是非常巨大的。

　　今天來簡單講解一下關于：半導體工業(yè)純水設備工藝流程;

　　半導體工業(yè)純水設備常采用的水處理工藝是電去離子EDI系統(tǒng)：

　　電去離子也就是常說的EDI，EDI系統(tǒng)采用的是一種離子交換技術，子交換膜技術和離子電遷移技術相結合的純水制造技術。

　　最新的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM)：

　　原水預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象。

　　傳統(tǒng)的水處理工藝流程(≥18MΩ.CM)：

　　原水預處理系統(tǒng)→反滲透系統(tǒng)→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象。

　　采用EDI系統(tǒng)制取純水的優(yōu)勢有：

　　1、EDI凈水設備具有連續(xù)出水;

　　2、設備在運行期間沒有加入化學藥劑，無需酸堿再生;

　　3、設備采用的是全自動的控制模式，因此可達到無人值守;

　　4、設備安裝方便：EDI系統(tǒng)采用積木式結構，依據(jù)場地的高度和窨靈活地構造;

　　以上是小編整理的關于半導體工業(yè)純水設備工藝流程講解，如想了解關于半導體工業(yè)純水設備水質為17MΩ.CM、15MΩ.CM等的水質工藝流程可到宏森環(huán)保進行詳細的資料查詢。